Kinetics of dispersion of niobium and hafnium nanofilms deposited on oxide materials in vacuum annealing

Naidich, Yu.V. and Gab, I.I. and Stetsyuk, T.V. and Kostyuk, B.D. and Lytvyn, O.S. (2014) Kinetics of dispersion of niobium and hafnium nanofilms deposited on oxide materials in vacuum annealing Welding International, 28 (12). pp. 973-976. ISSN 0950-7116 (Print), 1754-2138 (Online)

Full text not available from this repository.

Abstract

The authors present the results of an investigation into the dispersion kinetics of niobium and hafnium nanofilms with a thickness of 100 nm, deposited on the surface of specimens of aluminium oxide ceramics, sapphire and ceramics based on ZrO2 as a result of vacuum annealing at a temperature of 1300–1600 C with different holding times in the range of 2–20 min.

Item Type: Article
Uncontrolled Keywords: niobium; hafnium; dispersion kinetics; nanofilms; oxide
Subjects: Це архівна тематика Київського університету імені Бориса Грінченка > Статті у журналах > Наукові (входять до інших наукометричних баз, крім перерахованих, мають ISSN, DOI, індекс цитування)
Divisions: Це архівні підрозділи Київського університету імені Бориса Грінченка > Кафедра інформатики
Depositing User: Оксана Степанівна Литвин
Date Deposited: 25 Feb 2015 08:48
Last Modified: 20 Nov 2015 13:42
URI: https://elibrary.kubg.edu.ua/id/eprint/6285

Actions (login required)

View Item View Item