Bacherikov, Yu.Yu та Konakova, R.V. та Okhrimenko, O.B. та Berezovska, N.I. та Lytvyn, O.S. та Kapitanchuk, L.M. та Svetlichnyi, A.M. (2018) Тонкі плівки оксиду диспрозію, утворені при швидкому термічному відпалі на пористих підкладках SiC Semiconductor Physics, Quantum Electronics & Optoelectronics, 21 (4). с. 360-364. ISSN 1560-8034
Перегляд |
Текст
Yu_Bacherikov_O_Lytvyn_SPQEO_2018_v21_FITU.pdf Download (1MB) | Перегляд |
Анотація
У цій роботі розглянуто вплив швидкого термічного відпалу (ШТВ) на властивості плівки Dy2O3, що утворюється на поверхні підкладки зі структурою por-SiC/SiC. Атомний склад досліджуваних плівок аналізували як функцію часу ШТВ. Показано, що метод ШТВ дозволяє отримувати тонкі плівки оксиду диспрозію зі складом, близьким до стехіометричного. У цьому випадку збільшення часу ШТВ призводить до поліпшення якості межі поділу плівка-підкладка і до збільшення оптичного пропускання структури Dy2O3/por-SiC/SiC.
| Тип елементу : | Стаття |
|---|---|
| Ключові слова: | тонкі плівки оксиду диспрозію; швидкий термічний відпал; підкладки SiC; межа поділу; пористий шар |
| Типологія: | Це архівна тематика Київського університету імені Бориса Грінченка > Статті у наукометричних базах > Web of Science |
| Підрозділи: | Це архівні підрозділи Київського університету імені Бориса Грінченка > Кафедра комп'ютерних наук і математики |
| Користувач, що депонує: | Оксана Степанівна Литвин |
| Дата внесення: | 26 Лют 2019 11:57 |
| Останні зміни: | 26 Лют 2019 11:57 |
| URI: | https://elibrary.kubg.edu.ua/id/eprint/26415 |
Actions (login required)
 |
Перегляд елементу |