Минько, В.І. та Шепелявий, П.Є. та Данько, В.А. та Індутний, І.З. та Луканюк, М.В. та Литвин, Оксана Степанівна (2013) Позитивний фоторезист GeSe3 для мікропрофілювання поверхонь при створенні сенсорних структур In: II Міжнародна науково - практична конференція «Напівпровідникові матеріали, інформаційні технології та фотовольтаїка», 22 - 24 травня 2013 р, Украъна, Кременчук, Кременчуцький національний університет імені М ихайла Остроградського.
Перегляд |
Текст
V_Minko_P_Shepelyavyy_V_Danko_etc_NMITF-2013__IS.pdf Download (337kB) | Перегляд |
Офіційне посилання: http://nmitf.kdu.edu.ua/index.php/ua/materialy-kon...
Анотація
Представлено результати досліджень можливого використання безмиш‘якової халькогенідної сполуки GeSe3 як позитивного фоторезисту для процесу інтерференційної фотолітографії.
| Тип елементу : | Доповідь на конференції чи семінарі (Тези) |
|---|---|
| Ключові слова: | халькогеніди; GeSe3; фоторезист; фотолітографія; атомно-силова мікроскопія |
| Типологія: | Це архівна тематика Київського університету імені Бориса Грінченка > Наукові конференції > Міжнародні |
| Підрозділи: | Це архівні підрозділи Київського університету імені Бориса Грінченка > Кафедра інформатики |
| Користувач, що депонує: | Оксана Степанівна Литвин |
| Дата внесення: | 24 Черв 2014 09:08 |
| Останні зміни: | 20 Лист 2015 12:35 |
| URI: | https://elibrary.kubg.edu.ua/id/eprint/3476 |
Actions (login required)
 |
Перегляд елементу |