Минько, В.І. and Шепелявий, П.Є. and Данько, В.А. and Індутний, І.З. and Луканюк, М.В. and Литвин, Оксана Степанівна (2013) Positive GеSе3 photoresist for surface microprofiling at sensor structures development In: II Міжнародна науково - практична конференція «Напівпровідникові матеріали, інформаційні технології та фотовольтаїка», 22 - 24 травня 2013 р, Украъна, Кременчук, Кременчуцький національний університет імені М ихайла Остроградського.
Preview |
Text
V_Minko_P_Shepelyavyy_V_Danko_etc_NMITF-2013__IS.pdf Download (337kB) | Preview |
Official URL: http://nmitf.kdu.edu.ua/index.php/ua/materialy-kon...
Abstract
The results of possible application of arsenic free GeSe3 chalcogenide compound as a positive photoresist for interference photolithography process reported.
Item Type: | Conference or Workshop Item (Paper) |
---|---|
Uncontrolled Keywords: | chalcogenide; GeSe3; photoresist; photolithography; atomic force microscopy |
Subjects: | Це архівна тематика Київського університету імені Бориса Грінченка > Наукові конференції > Міжнародні |
Divisions: | Це архівні підрозділи Київського університету імені Бориса Грінченка > Кафедра інформатики |
Depositing User: | Оксана Степанівна Литвин |
Date Deposited: | 24 Jun 2014 09:08 |
Last Modified: | 20 Nov 2015 12:35 |
URI: | https://elibrary.kubg.edu.ua/id/eprint/3476 |
Actions (login required)
![]() |
View Item |