The influence of substrate temperature on the structure and optical properties of NiO thin films deposited using the magnetron sputtering in the layer-by-layer growth regime

Ievtushenko, A.I. та Karpyna, V.A. та Bykov, O.I. та Dranchuk, M.V. та Kolomys, O.F. та Maziar, D.M. та Strelchuk, V.V. та Starik, S. та Baturin, V.A. та Karpenko, О.Y. та Lytvyn, O.S. (2023) The influence of substrate temperature on the structure and optical properties of NiO thin films deposited using the magnetron sputtering in the layer-by-layer growth regime Semiconductor Physics, Quantum Electronics & Optoelectronics, 26 (4). с. 398-407. ISSN 1605-6582

[thumbnail of O_Lytvyn_SPQEO_v26n4_FITM.pdf] Текст
O_Lytvyn_SPQEO_v26n4_FITM.pdf - Опублікована версія

Download (1MB)
Офіційне посилання: http://journal-spqeo.org.ua/n4_2023/v26n4-p398-407...

Анотація

Якісні полікристалічні плівки NiO є дуже привабливими матеріалами для різних застосувань. Розглянуто вплив температури підкладки на структуру, морфологію та оптичні властивості плівок NiO, осаджених на скляні підкладки методом магнетронного розпилення в режимі пошарового росту. На рентгенограмі виявлено відбиття від (111), (200) і (220) площин кубічного NiO. Продемонстровано, що стехіометричне співвідношення O/Ni наближається до 1,0 з підвищенням температури підкладки. Оптичний коефіцієнт пропускання осаджених плівок NiO був у межах 20–35%, а оптична ширина забороненої зони змінювалася від 2,76 до 2,98 еВ. АСМ аналіз морфології поверхні показав, що середній розмір зерен плівок NiO змінювався від 25 до 30 нм, а шорсткість поверхні від 1,1 до 1,5 нм відповідно.

Тип елементу : Стаття
Ключові слова: плівки NiO; магнетронне розпилення; РФА; температура підкладки; коефіцієнт пропускання; атомно-силова мікроскопія
Типологія: Це архівна тематика Київського університету імені Бориса Грінченка > Статті у наукометричних базах > Scopus
Це архівна тематика Київського університету імені Бориса Грінченка > Статті у наукометричних базах > Web of Science
Це архівна тематика Київського університету імені Бориса Грінченка > Статті у журналах > Фахові (входять до переліку фахових, затверджений МОН)
Підрозділи: Це архівні підрозділи Київського університету імені Бориса Грінченка > Факультет інформаційних технологій та математики > Кафедра математики і фізики
Користувач, що депонує: Оксана Степанівна Литвин
Дата внесення: 15 Груд 2023 11:45
Останні зміни: 12 Січ 2024 06:59
URI: https://elibrary.kubg.edu.ua/id/eprint/47805

Actions (login required)

Перегляд елементу Перегляд елементу